Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Голишников, А. А. - Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике
Голишников, А. А. - Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике
Нет экз.
Электронный ресурс
Автор: Голишников, А. А.
Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике : учеб. пособие
Издательство: МИЭТ, 2022 г.
ISBN 978-5-7256-0992-9
Автор: Голишников, А. А.
Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике : учеб. пособие
Издательство: МИЭТ, 2022 г.
ISBN 978-5-7256-0992-9
На полку
Электронный ресурс
Голишников, А. А.
Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике [Электронный ресурс] : учеб. пособие. – Москва : МИЭТ, 2022. – 164 с. – Режим доступа : https://e.lanbook.com/book/324851, https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg. – Книга из коллекции МИЭТ - Нанотехнологии. – На рус. яз. – ISBN 978-5-7256-0992-9.
Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам «Технология интегральных схем», «Проектирование и технология электронной компонентной базы» и «Технологические процессы наноэлектроники».
621.38.049.77-022.532:533.9 (075.8)
основной = ЭБС Лань
Голишников, А. А.
Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике [Электронный ресурс] : учеб. пособие. – Москва : МИЭТ, 2022. – 164 с. – Режим доступа : https://e.lanbook.com/book/324851, https://e.lanbook.com/img/cover/book/324851.jpg. – Книга из коллекции МИЭТ - Нанотехнологии. – На рус. яз. – ISBN 978-5-7256-0992-9.
Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазмоактивируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменной иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам «Технология интегральных схем», «Проектирование и технология электронной компонентной базы» и «Технологические процессы наноэлектроники».
621.38.049.77-022.532:533.9 (075.8)
основной = ЭБС Лань